專利預審常見的形式缺陷

一、權(quán)利要求書中常見的形式缺陷

在實際的預先審查工作中，權(quán)利要求書中常見的形式缺陷有：

權(quán)利要求結(jié)尾處沒有使用句號結(jié)尾或者一個權(quán)利要求中有兩個或者兩個以上句號；

權(quán)利要求沒有使用“其特征是……”或類似用語劃分前序部分和特征部分，或者“其特征是……”或類似用語出現(xiàn)多個；

“權(quán)利要求”錯寫為“權(quán)力要求”；

將“根據(jù)權(quán)利要求 × 所述的”錯寫為“根據(jù)權(quán)利要求書 × 所述的”；

獨立權(quán)利要求的主題與請求書、說明書中發(fā)明名稱不一致；

從屬權(quán)利要求的主題名稱與所引用的權(quán)利要求的主題名稱不一致；

獨立權(quán)利要求中進一步限定的技術(shù)特征沒有存在于此技術(shù)特征之前（無引用基礎(chǔ)）；

從屬權(quán)利要求中進一步限定的技術(shù)特征沒有存在于所引用的權(quán)利要求中 ( 無引用基礎(chǔ)，并且也未存在于本權(quán)利要求此技術(shù)特征之前的內(nèi)容中）；

從屬權(quán)利要求引用在前的權(quán)利要求但沒有寫明所引用的權(quán)利要求編號；

獨立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求不能引用本身；

一項引用兩項以上權(quán)利要求的多項從屬權(quán)利要求不得作為另一項多項從屬權(quán)利要求的引用基礎(chǔ)（多引多問題）；

獨立權(quán)利要求沒有寫到要引用此獨權(quán)的從屬權(quán)利要求之前；

語句中存在錯別字；

權(quán)利要求中含有類似“優(yōu)選”之類的不確定用語；

技術(shù)特征后的附圖標記沒有括號；

技術(shù)特征附圖標記對應關(guān)系與附圖說明中的對應關(guān)系不一致。

二、說明書中常見形式缺陷

說明書中常見形式缺陷有：

不是標準的格式:（標準格式包括 5 個小標題，即《專利法實施細則》第 17條規(guī)定的說明書應當包括下列內(nèi)容：技術(shù)領(lǐng)域，背景技術(shù)，發(fā)明內(nèi)容，附圖說明和具體實施方式），不是標準的組成標題：例如，說明書中小標題“具體實施方式”寫成“實施方式”；

缺少上述小標題；

說明書沒有按照技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明和具體實施方式順序撰寫；

說明書附圖中缺少說明書附圖說明中提及的附圖；

說明書附圖中缺少附圖說明中提及的附圖標記；

說明書具體實施方式中的技術(shù)特征與附圖標記對應關(guān)系錯誤；

說明書具體實施方式中的附圖標記后有括號。

三、說明書摘要常見形式缺陷

說明書摘要常見形式缺陷：摘要文字部分（包括標點符號）超過 300 個字；

請求書常見形式缺陷：請求書中的發(fā)明名稱和說明書中的發(fā)明名稱不一致；

發(fā)明名稱超過 25 個字；

發(fā)明人姓名填寫重復；

在進入快速審查通道時發(fā)明實質(zhì)審查請求書中未標明放棄主動修改的權(quán)利。

我國《專利法》第 59 條規(guī)定，發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。在專利撰寫、預審和審查過程中，權(quán)利要求書中的技術(shù)特征引用問題和附圖標記對應問題比較凸出，尤其是在權(quán)利要求書中存在多引多和多個獨權(quán)的情形下，技術(shù)方案中更容易出現(xiàn)缺少引用基礎(chǔ)的形式缺陷，導致權(quán)利要求書中相應技術(shù)方案的保護范圍不清楚。另外，說明書具體實施方式中的技術(shù)特征與附圖標記不對應問題也比較常見。